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關(guān)于磁控濺射設(shè)備的選型

發(fā)布時間:2024-03-31 點擊量:385

關(guān)于磁控濺射設(shè)備的選型

磁控濺射設(shè)備的原理是利用靶材背面的強磁體促進(jìn)陰極表層電離,然后利用磁場使離子與靶材碰撞并釋放出金屬分子。
金和鉑等貴金屬主要用于電子顯微鏡應(yīng)用。我們還有一系列可以濺射其他金屬靶材的型號。

電子顯微鏡用濺射,主要粒徑比較


Au:金
觀察范圍:幾千~10,000倍
Au-Pd:金鈀
觀察范圍:10,000~50,000倍
適合低倍率觀察,對比度良好。

Pt:鉑
觀察面積:50,000 至 100,000 倍
Pt-Pd:鉑鈀
觀察面積:30,000 至 50,000 倍
顆粒尺寸細(xì)小,常在高倍率觀察時使用。

W:鎢
觀察倍率:10萬倍以上
粒徑具有與鋨相當(dāng)?shù)募?xì)度,能夠以比鉑更高的倍率進(jìn)行觀察。

如果您想要簡單的操作和低廉的價格

只需用計時器設(shè)置涂層時間并按下開始按鈕即可!
任何人都可以輕松地進(jìn)行濺射加工。

設(shè)備特征目標(biāo)金屬
MSP-mini
超小型濺射裝置
這是用于光學(xué)顯微鏡、SEM 和臺式 SEM 預(yù)處理的 Ag 光澤薄膜的裝置。
MSP-1S
是一款內(nèi)置泵的小型濺射裝置。
還可以濺射鉑靶,并可用于高達(dá)約 50,000 倍的高放大倍率觀察。

如果您根據(jù)可操作性和功能性來選擇

MSP20系列以高功能和易于操作的理念開發(fā)。該陣容具有滿足各種需求的性能,包括調(diào)節(jié)功能、自動排氣順序和聯(lián)鎖功能。各有特點:UM有樣品旋轉(zhuǎn)機構(gòu),MT有4英寸靶材,TK可以進(jìn)行鎢濺射。

設(shè)備特征目標(biāo)金屬
MSP-20UM
具有廣泛的調(diào)節(jié)功能,可用于各種用途。設(shè)置條件后,可以使用全自動按鈕進(jìn)行自動薄膜沉積。
可選擇傾斜和旋轉(zhuǎn)樣品臺。包裹性能得到改善。
通過導(dǎo)入氬氣,可以鍍出更高純度的貴金屬膜。
這是一種具有完整聯(lián)鎖/安全機制的濺射裝置。
MSP-20MT
配備有φ100mm尺寸靶材電極、可與4英寸晶圓兼容的濺射裝置。
該設(shè)備概念基于 MSP-20,可對更廣泛的樣品進(jìn)行涂層。
MSP-20TK
是專門為鎢濺射開發(fā)的設(shè)備。它對于超高分辨率 SEM 觀察也很有用。高容量電源可以濺射貴金屬以外的多種金屬。
使用氬氣作為氣氛氣體。風(fēng)冷磁控管靶可減少樣品損壞并防止靶溫升。



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