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半導體制造車間對溫濕度的控制及露點設備推薦

發(fā)布時間:2023-10-21 點擊量:721

半導體制造車間對溫濕度的控制及露點設備推薦

在半導體制造中,水一直是影響較大的污染物之一,統(tǒng)計顯示,不符合工況要求的水分造成的損失占損失的 25%。為避免產(chǎn)品質(zhì)量和產(chǎn)量出現(xiàn)問題,在半導體制造過程中必須尤為謹慎地監(jiān)測濕度和溫度水平。如濕度是硅晶圓生產(chǎn)過程中關鍵的因素,如果空氣太干燥,靜電就會成為問題。

半導體、微電路和微芯片制造需要在制造/加工區(qū)域保持非常精確的條件。用于半導體組裝或加工的元件通常具有吸濕性,因此極易受到高濕度條件的影響。

吸濕成分可以導致:


  • 電路點腐蝕

  • 半導體組裝的操作故障

  • 光刻膠附著力不當

  • 微芯片電路表面結露。


組裝領域:在半導體和集成電路的生產(chǎn)過程中,過多的水分會對鍵合過程產(chǎn)生不利影響并增加缺陷。稱為光致抗蝕劑的光敏聚合物化合物用于掩蓋蝕刻過程中的電路線。由于它們的吸濕性,它們會吸收水分,導致微觀電路線被切斷或橋接,從而導致電路故障。


晶圓制造區(qū)域:在晶圓制造過程中,旋轉(zhuǎn)器將顯影劑噴射到晶圓表面,使晶圓上的溶劑迅速蒸發(fā),從而冷卻晶圓表面。這導致空氣中的水蒸氣凝結在晶片表面上。晶圓上多余的水會導致顯影劑的特性發(fā)生變化。抗蝕劑還會吸收水分,導致聚合物膨脹。將相對濕度控制在 30% 可以消除將晶圓表面冷卻至晶圓表面周圍空氣露點以下的可能性,從而防止故障和損壞。

光刻室:光刻室的條件需要保持在 20% 至 35% RH 之間,溫度約為 700°F。過多的水分會導致二氧化硅吸收水分,導致光刻膠粘附不當,從而導致應力斷裂和表面缺陷。

真空抽氣速度更快:如果濕度較高,低溫泵等真空設備的運行會因水蒸氣負荷較大而減慢。如果 RH 水平能夠維持在 30-35% 左右,則可大大降低,從而提高批處理速度。。

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TK-100 在線露點儀的傳感器,采用的是 靜電容量式原理。 

當水分子被夾在兩個導電層之間的多孔絕緣層 吸收時,上導電層與下導電層之間的電容將會 產(chǎn)生變化。 

該電容量通過傳感器內(nèi)部電路被線性的轉(zhuǎn)換為露點 的模擬信號。 吸濕水分的絕緣層厚度為 0.5 μm 以下,上層導電金屬層厚度為 0.1 μm 以下,即使少量 水分的吸附也可迅速反應。 

擁有如此薄度的同時,傳感器仍保持優(yōu)秀的強韌及耐久性。

■   靜電容式露點儀

■   測量范圍:-100~20℃dp

■   精度:±2℃dp

■   短交貨期

用途:手套箱中的露點管理、干燥機露點檢查、熱處理爐內(nèi)大氣管理、電池,半導體,潔凈室和干室露點管理、氣體純度管理、天然氣水分管理、半導體制造設備、有機EL制造。

采用先進的傳感器技術

TK-100 采用先進的陶瓷傳感器技術,在這基礎上通過TEKHNE多年積累的大量實測數(shù)據(jù)進行調(diào)試和打磨出來的產(chǎn)品。

圖片

應用:半導體、液晶、電池、電子行業(yè)


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