thermocera薄膜實驗設備介紹

【MiniLab系列柔性薄膜實驗設備】可根據(jù)各種客戶要求模塊化配置進行定制。 我們還滿足高規(guī)格要求，如多路濺射、氣相沉積、多維同步成膜和多腔室系統(tǒng)。 所有組件都存儲在 19 英寸機架（單、雙、三）的緊湊框架中，所有操作和數(shù)據(jù)管理都可以通過單個 7 英寸觸摸面板（或 Windows PC）集中管理。 我們通過與手套箱無縫連接、氣相沉積掩模/基板自動轉(zhuǎn)換器、去除 1D/PMMA 等抗蝕劑的“軟蝕刻"和晶圓級石墨烯合成設備 [nanoCVD-WGP（MiniLab-2 的應用設備）]等原創(chuàng)技術為研究和開發(fā)做出貢獻。

• 真空沉積（金屬和有機材料）

• 磁控濺射

• 電子束沉積

• 射頻/直流等離子體蝕刻

• 退火

• 熱CVD

相關產(chǎn)品介紹

MiniLab系列
柔性薄膜實驗室設備

由于它是模塊化的內(nèi)置類型，因此可以根據(jù)所需的膜類型和工藝組裝專用機器。 靈活的緊湊型實驗設備，可用于各種用途。

ML-GB-026/090
手套箱薄膜實驗室設備

通過將PVD腔室存儲在GB中，可以在“無氧/無濕氣"的實驗環(huán)境中無縫執(zhí)行氣相沉積，飛濺和退火等所有操作。

納米CVD-WGP
晶圓級石墨烯合成器

Φ3英寸和Φ4英寸晶圓尺寸的石墨烯合成器。 通過抑制雜質(zhì)高速合成清潔、高質(zhì)量的石墨烯。 它可用于熱CVD或低溫/高溫等離子CVD。

納米爐熱CVD機

緊湊型臺式熱壁式熱CVD系統(tǒng)。 4.工藝氣體系統(tǒng)，高精度APC工藝壓力控制。 均勻加熱實驗可以在反應管中的穩(wěn)定氣氛中進行。

PLD-1000 PLD薄膜沉積設備

藍波半導體 PLD1000